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真空镀铝膜实在高真空状态下，将铝的蒸汽沉淀堆积到各种基膜上的一种薄膜，镀铝层的厚度一般为350~400A
发布时间：2013-09-12浏览量：3815
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真空镀铝膜实在高真空状态下，将铝的蒸汽沉淀堆积到各种基膜上的一种薄膜，镀铝层的厚度一般为350~400A
特点
1. 有金属光泽，气体的阻隔性大
2. 镀铝厚度在40~50nm之间
3. 主要的不足在于铝与基材的附着牢度不高，经复合加工后容易出现镀铝层转移现象
应用
镀铝膜主要用在轻质、非蒸煮的阻隔性包装，如海苔包装、膨化食品、饼干的包装等